Surface-plasma method for the production of negative ion beams

Переведенное название: Поверхностно-плазменный метод получения пучков отрицательных ионов

V. G. Dudnikov

Результат исследования: Научные публикации в периодических изданияхстатьярецензирование

3 Цитирования (Scopus)

Аннотация

Повышенный интерес к разработке источников отрицательных ионов связан с развитием их важных применений. Это, прежде всего, тандемные ускорители, высокоэнергетическая имплантация и ускорительная масс-спектрометрия, сверхколлимированные пучки, перезарядная инжекция в циклические ускорители и накопители, перезарядный вывод пучков из циклотронов, инжекторы нейтралов высоких энергий в плазменные установки, перезарядная разводка пучков. Описано развитие источников отрицательных ионов и их применение в исследованиях и в промышленности. Дано описание физических основ и конструкций поверхностно-плазменных источников отрицательных ионов, а также история их разработки.
Переведенное названиеПоверхностно-плазменный метод получения пучков отрицательных ионов
Язык оригиналаанглийский
Номер статьи4
Страницы (с-по)1233-1267
Число страниц35
ЖурналPhysics-Uspekhi
Том62
Номер выпуска12
DOI
СостояниеОпубликовано - 2019
Опубликовано для внешнего пользованияДа

Предметные области OECD FOS+WOS

  • 1.03 ФИЗИЧЕСКИЕ НАУКИ И АСТРОНОМИЯ

ГРНТИ

  • 29 ФИЗИКА

Fingerprint

Подробные сведения о темах исследования «Поверхностно-плазменный метод получения пучков отрицательных ионов». Вместе они формируют уникальный семантический отпечаток (fingerprint).

Цитировать