Potassium titanyl phosphate sputtering features by argon cluster ions

Результат исследования: Публикации в книгах, отчётах, сборниках, трудах конференцийстатья в сборнике материалов конференциинаучнаярецензирование

Аннотация

In this paper, we consider features of changes in surface morphology of potassium titanyl phosphate single crystal at the treatment of the argon cluster ion beam. It demonstrated that the sputtering process of the target surface at the small energy per atom in the cluster leads to a subnanometer level of the surface roughness. The sputtering yields and etching rates of potassium titanyl phosphate have been determined for small energy per atom in the argon cluster. We analyze the complex characteristic of surface quality is the power spectral density function of surface roughness for studying the surface smoothing effect of KTP single crystals by argon cluster ions.

Язык оригиналаанглийский
Название основной публикацииProceedings - 2020 7th International Congress on Energy Fluxes and Radiation Effects, EFRE 2020
ИздательInstitute of Electrical and Electronics Engineers Inc.
Страницы526-528
Число страниц3
ISBN (электронное издание)9781728126869
DOI
СостояниеОпубликовано - 14 сен 2020
Событие7th International Congress on Energy Fluxes and Radiation Effects, EFRE 2020 - Virtual, Tomsk, Российская Федерация
Продолжительность: 14 сен 202026 сен 2020

Серия публикаций

НазваниеProceedings - 2020 7th International Congress on Energy Fluxes and Radiation Effects, EFRE 2020

Конференция

Конференция7th International Congress on Energy Fluxes and Radiation Effects, EFRE 2020
СтранаРоссийская Федерация
ГородVirtual, Tomsk
Период14.09.202026.09.2020

Fingerprint Подробные сведения о темах исследования «Potassium titanyl phosphate sputtering features by argon cluster ions». Вместе они формируют уникальный семантический отпечаток (fingerprint).

Цитировать