Phonon-assisted electron tunneling between traps in silicon oxide films treated in hydrogen plasma

V. A. Voronkovskii, T. V. Perevalov, R. M.H. Iskhakzay, V. Sh Aliev, V. A. Gritsenko, I. P. Prosvirin

Результат исследования: Научные публикации в периодических изданияхстатьярецензирование

1 Цитирования (Scopus)

Fingerprint

Подробные сведения о темах исследования «Phonon-assisted electron tunneling between traps in silicon oxide films treated in hydrogen plasma». Вместе они формируют уникальный семантический отпечаток (fingerprint).

Технические дисциплины и материаловедение

Физика и астрономия

Химические соединения