Microwave Photoresistance of a Two-Dimensional Topological Insulator in a HgTe Quantum Well

A. S. Yaroshevich, Z. D. Kvon, G. M. Gusev, N. N. Mikhailov

Результат исследования: Научные публикации в периодических изданияхстатья

1 Цитирования (Scopus)

Аннотация

The microwave photoresistance of a two-dimensional topological insulator in a HgTe quantum well with an inverted spectrum has been experimentally studied under irradiation at frequencies of 110–169 GHz. Two mechanisms of formation of this photoresistance have been revealed. The first mechanism is due to transitions between the dispersion branches of edge current states, whereas the second mechanism is caused by the action of radiation on the bulk of the quantum well.

Язык оригиналаанглийский
Страницы (с-по)121-125
Число страниц5
ЖурналJETP Letters
Том111
Номер выпуска2
DOI
СостояниеОпубликовано - янв 2020

Fingerprint Подробные сведения о темах исследования «Microwave Photoresistance of a Two-Dimensional Topological Insulator in a HgTe Quantum Well». Вместе они формируют уникальный семантический отпечаток (fingerprint).

  • Цитировать