Microsrtucture of iridium enriched Pt xIr(1–x) film prepared by chemical vapor deposition

S. I. Dorovskikh; E. S. Vikulova; I. V. Korolkov; E. A. Maksimovskiy; D. B. Kal’nyi; N. B. Morozova

doi:10.1134/S0022476621090146

Microsrtucture of iridium enriched Pt_xIr_(1–x) film prepared by chemical vapor deposition

Переведенное название: Особенности микроструктуры иридийобогащенных пленок PtxIr(1-x), полученных методом химического осаждения из газовой фазы

S. I. Dorovskikh, E. S. Vikulova, I. V. Korolkov, E. A. Maksimovskiy, D. B. Kal’nyi, N. B. Morozova

Кафедра аналитической химии ФЕН

Результат исследования: Научные публикации в периодических изданиях › статья › рецензирование

Аннотация

Разработаны процессы MOCVD осаждения пленок Pt x Ir(1- x ) с x < 0.3, толщиной 1.5-1.8 мкм в атмосфере кислорода на контакты диагностических электродов и титановые диски с использованием комбинации ацетилацетонатных (acac) производных Pt(II) и Ir(I) (Pt(acac)2, Ir(cod)(acac), где cod = циклооктадиен-1,5. Показано, что соотношение металлов в пленках, полученных на разных типах носителей в одном эксперименте, близко. Пленки содержат фазы твердых растворов Pt x Ir(1- x ) без примесей металлических и оксидных фаз, а соотношение металлов в объеме образцов соответствует экспериментально заданному. Согласно ЭДС и РФЭС, при формировании в приповерхностных слоях (10 нм) пленок фаз Pt x Ir(1- x ) содержание иридия понижено по сравнению с данными РФА. Поверхность пленок Pt x Ir(1- x ) состоит из агломератов, образованных мелкими частицами, средние размеры которых уменьшаются от 29 нм до 24-25 нм с понижением содержания Pt в интервале x = 0.3-0.2, и далее практически не меняются. Величины емкости образцов контактов с пленками Pt x Ir(1- x ) лежат в интервале 62.6-84.5 мКл/см2.

Переведенное название	Особенности микроструктуры иридийобогащенных пленок PtxIr(1-x), полученных методом химического осаждения из газовой фазы
Язык оригинала	английский
Номер статьи	14
Страницы (с-по)	1447-1456
Число страниц	10
Журнал	Journal of Structural Chemistry
Том	62
Номер выпуска	9
DOI	https://doi.org/10.1134/S0022476621090146
Состояние	Опубликовано - сент. 2021

Предметные области OECD FOS+WOS

2.05 ТЕХНОЛОГИЯ МАТЕРИАЛОВ
1.04 ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ

ГРНТИ

31.17 Неорганическая химия. Комплексные соединения

Доступ к документу

10.1134/S0022476621090146

Другие файлы и ссылки

Fingerprint

Подробные сведения о темах исследования «Особенности микроструктуры иридийобогащенных пленок PtxIr(1-x), полученных методом химического осаждения из газовой фазы». Вместе они формируют уникальный семантический отпечаток (fingerprint).

Цитировать

@article{c3a7ce22d6104cffbf80f17278df6386,

title = "Microsrtucture of iridium enriched Pt xIr(1–x) film prepared by chemical vapor deposition",

abstract = "MOCVD processes for the fabrication of PtxIr(1–x) films (x < 0.3, thickness 1.5-1.8 µm) on the contacts of diagnostic electrodes and titanium discs are developed using a combination of Pt(II) and Ir(I) acetylacetonate (acac) derivatives (Pt(acac)2, Ir(cod)(acac) (cod = cyclooctadiene-1,5) and oxygen as a gas reagent. It is shown that the ratios of metals in the films prepared on different types of supports are similar within the same experiment. The films contain phases of solid solution PtxIr(1–x) without admixtures of metallic and oxide phases; the ratio of metals in the sample volume corresponds to the one experimentally specified. EDS and XPS methods determine a lower iridium content after the formation of PtxIr(1–x) films in the subsurface layers (10 nm) than the XRD method. The surface of PtxIr(1–x) films consists of agglomerates formed by small particles. When the Pt content decreases from x = 0.3 to x = 0.2, the average size of these particles decreases from 29 nm to 24–25 nm and then remains virtually constant. The capacitance values of contacts with PtxIr(1–x) films vary within 62.6-84.5 mC/cm2.",

keywords = "bimetallic films, chemical vapor deposition, developed surface, electrochemical research, iridium, platinum",

author = "Dorovskikh, {S. I.} and Vikulova, {E. S.} and Korolkov, {I. V.} and Maksimovskiy, {E. A.} and Kal{\textquoteright}nyi, {D. B.} and Morozova, {N. B.}",

note = "Funding Information: This work was funded by the Russian Science Foundation, project No. 20-15-00222. Publisher Copyright: {\textcopyright} 2021, Pleiades Publishing, Ltd.",

year = "2021",

month = sep,

doi = "10.1134/S0022476621090146",

language = "English",

volume = "62",

pages = "1447--1456",

journal = "Journal of Structural Chemistry",

issn = "0022-4766",

publisher = "Springer GmbH & Co, Auslieferungs-Gesellschaf",

number = "9",

}

Microsrtucture of iridium enriched Pt_xIr_(1–x) film prepared by chemical vapor deposition. / Dorovskikh, S. I.; Vikulova, E. S.; Korolkov, I. V. и др.

В: Journal of Structural Chemistry, Том 62, № 9, 14, 09.2021, стр. 1447-1456.

Результат исследования: Научные публикации в периодических изданиях › статья › рецензирование

TY - JOUR

T1 - Microsrtucture of iridium enriched Pt xIr(1–x) film prepared by chemical vapor deposition

AU - Dorovskikh, S. I.

AU - Vikulova, E. S.

AU - Korolkov, I. V.

AU - Maksimovskiy, E. A.

AU - Kal’nyi, D. B.

AU - Morozova, N. B.

PY - 2021/9

Y1 - 2021/9

N2 - MOCVD processes for the fabrication of PtxIr(1–x) films (x < 0.3, thickness 1.5-1.8 µm) on the contacts of diagnostic electrodes and titanium discs are developed using a combination of Pt(II) and Ir(I) acetylacetonate (acac) derivatives (Pt(acac)2, Ir(cod)(acac) (cod = cyclooctadiene-1,5) and oxygen as a gas reagent. It is shown that the ratios of metals in the films prepared on different types of supports are similar within the same experiment. The films contain phases of solid solution PtxIr(1–x) without admixtures of metallic and oxide phases; the ratio of metals in the sample volume corresponds to the one experimentally specified. EDS and XPS methods determine a lower iridium content after the formation of PtxIr(1–x) films in the subsurface layers (10 nm) than the XRD method. The surface of PtxIr(1–x) films consists of agglomerates formed by small particles. When the Pt content decreases from x = 0.3 to x = 0.2, the average size of these particles decreases from 29 nm to 24–25 nm and then remains virtually constant. The capacitance values of contacts with PtxIr(1–x) films vary within 62.6-84.5 mC/cm2.

AB - MOCVD processes for the fabrication of PtxIr(1–x) films (x < 0.3, thickness 1.5-1.8 µm) on the contacts of diagnostic electrodes and titanium discs are developed using a combination of Pt(II) and Ir(I) acetylacetonate (acac) derivatives (Pt(acac)2, Ir(cod)(acac) (cod = cyclooctadiene-1,5) and oxygen as a gas reagent. It is shown that the ratios of metals in the films prepared on different types of supports are similar within the same experiment. The films contain phases of solid solution PtxIr(1–x) without admixtures of metallic and oxide phases; the ratio of metals in the sample volume corresponds to the one experimentally specified. EDS and XPS methods determine a lower iridium content after the formation of PtxIr(1–x) films in the subsurface layers (10 nm) than the XRD method. The surface of PtxIr(1–x) films consists of agglomerates formed by small particles. When the Pt content decreases from x = 0.3 to x = 0.2, the average size of these particles decreases from 29 nm to 24–25 nm and then remains virtually constant. The capacitance values of contacts with PtxIr(1–x) films vary within 62.6-84.5 mC/cm2.

KW - bimetallic films

KW - chemical vapor deposition

KW - developed surface

KW - electrochemical research

KW - iridium

KW - platinum

UR - http://www.scopus.com/inward/record.url?scp=85118226141&partnerID=8YFLogxK

UR - https://www.elibrary.ru/item.asp?id=47140664

U2 - 10.1134/S0022476621090146

DO - 10.1134/S0022476621090146

M3 - Article

AN - SCOPUS:85118226141

VL - 62

SP - 1447

EP - 1456

JO - Journal of Structural Chemistry

JF - Journal of Structural Chemistry

SN - 0022-4766

IS - 9

M1 - 14

ER -