Measurements of the contact angle of Noa81 photoresist for different temperatures

Ekaterina O. Kirichenko, Elizaveta Ya Gatapova

Результат исследования: Научные публикации в периодических изданияхстатья по материалам конференции

Аннотация

In this work we study the properties of the surface, obtained by applying Noa 81 photoresist at different temperatures of the substrate. The measurement of free energy was conducted by the Owens, Wendt, Rabel and Kaelble method under isothermal conditions. The paper presents the obtained data on contact angle for different temperatures.

Язык оригиналаанглийский
Номер статьи01042
ЖурналMATEC Web of Conferences
Том92
DOI
СостояниеОпубликовано - 21 дек 2016
Событие2016 Thermophysical Basis of Energy Technologies, TBET 2016 - Tomsk, Российская Федерация
Продолжительность: 26 окт 201628 окт 2016

Fingerprint Подробные сведения о темах исследования «Measurements of the contact angle of Noa81 photoresist for different temperatures». Вместе они формируют уникальный семантический отпечаток (fingerprint).

Цитировать