Formation of two-dimensional photonic crystals by electron-beam lithography

Dmitry E. Utkin, Dmitry A. Nasimov

Результат исследования: Публикации в книгах, отчётах, сборниках, трудах конференцийстатья в сборнике материалов конференциинаучнаярецензирование

2 Цитирования (Scopus)

Аннотация

The approach to formation of two-dimensional photonic crystals with preset sizes of elements by the electron-beam lithography (EBL) is presented. The main problems appearing during formation of these structures are considered.

Язык оригиналаанглийский
Название основной публикации12th International Conference and Seminar on Micro/Nanotechnologies and Electron Devices, EDM'2011 - Proceedings
Страницы119-121
Число страниц3
DOI
СостояниеОпубликовано - 2011
Событие12th International Conference and Seminar on Micro/Nanotechnologies and Electron Devices, EDM'2011 - Erlagol, Altai, Российская Федерация
Продолжительность: 30 июн 20114 июл 2011

Серия публикаций

Название12th International Conference and Seminar on Micro/Nanotechnologies and Electron Devices, EDM'2011 - Proceedings

Конференция

Конференция12th International Conference and Seminar on Micro/Nanotechnologies and Electron Devices, EDM'2011
СтранаРоссийская Федерация
ГородErlagol, Altai
Период30.06.201104.07.2011

Fingerprint

Подробные сведения о темах исследования «Formation of two-dimensional photonic crystals by electron-beam lithography». Вместе они формируют уникальный семантический отпечаток (fingerprint).

Цитировать