Formation of Thick High-Aspect-Ratio Resistive Masks by the Contact Photolithography Method

A. N. Gentselev, F. N. Dul’tsev, V. I. Kondrat’ev, A. G. Lemzyakov

Результат исследования: Научные публикации в периодических изданияхстатьярецензирование

5 Цитирования (Scopus)

Fingerprint Подробные сведения о темах исследования «Formation of Thick High-Aspect-Ratio Resistive Masks by the Contact Photolithography Method». Вместе они формируют уникальный семантический отпечаток (fingerprint).

Физика и астрономия

Engineering

General

Life Sciences

Chemistry and Materials

Physics

Технические дисциплины и материаловедение