Atomic and electronic structures of the native defects responsible for the resistive effect in HfO2: ab initio simulations

T. V. Perevalov, D. R. Islamov

Результат исследования: Научные публикации в периодических изданияхстатьярецензирование

1 Цитирования (Scopus)

Fingerprint

Подробные сведения о темах исследования «Atomic and electronic structures of the native defects responsible for the resistive effect in HfO2: ab initio simulations». Вместе они формируют уникальный семантический отпечаток (fingerprint).

Технические дисциплины и материаловедение

Физика и астрономия

Химические соединения