A method for fabricating the ordered arrays of silicon nanopillars

L. S. Basalaeva, Yu V. Nastaushev, F. N. Dultsev

Результат исследования: Научные публикации в периодических изданияхстатья

2 Цитирования (Scopus)

Аннотация

In this paper, the formation of the arrays of silicon nanopillars by means of electron-beam lithography and dry etching is described. Silicon nanopillars 50 to 350 nm in diameter, 80 to 800 nm high were fabricated. Important features of the formation of these structures were described. Cones and tapered cones can be formed with the help of this method.

Язык оригиналаанглийский
Страницы (с-по)11341-11345
Число страниц5
ЖурналMaterials Today: Proceedings
Том4
Номер выпуска11
DOI
СостояниеОпубликовано - 1 янв 2017

Fingerprint Подробные сведения о темах исследования «A method for fabricating the ordered arrays of silicon nanopillars». Вместе они формируют уникальный семантический отпечаток (fingerprint).

Цитировать