Smoothing of Polycrystalline AlN Thin Films with Argon Cluster Ions

I. V. Nikolaev; N. G. Korobeishchikov; M. A. Roenko; P. V. Geydt; V. I. Strunin

doi:10.1134/S1063785021030275

Smoothing of Polycrystalline AlN Thin Films with Argon Cluster Ions

Переведенное название: Сглаживание тонких поликристаллических пленок AlN кластерными ионами аргона

I. V. Nikolaev, N. G. Korobeishchikov, M. A. Roenko, P. V. Geydt, V. I. Strunin

Результат исследования: Научные публикации в периодических изданиях › статья › рецензирование

Аннотация

Исследована модификация поверхности тонких поликристаллических пленок нитрида алюминия с помощью бомбардировки ионно-кластерным пучком. Обработка проводилась высоко- (105 eV/atom) и низкоэнергетическими (10 eV/atom) кластерными ионами аргона. С помощью метода атомно-силовой микроскопии с применением спектральной функции шероховатости продемонстрировано высокоэффективное сглаживание наноструктурированной поверхности в широком диапазоне пространственных частот (ν=0.02-128 μm-1) при ультрамалой глубине травления (<100 nm). Ключевые слова: ионно-кластерный пучок, тонкие пленки, нитрид алюминия, сглаживание поверхности.

Переведенное название	Сглаживание тонких поликристаллических пленок AlN кластерными ионами аргона
Язык оригинала	английский
Номер статьи	12
Страницы (с-по)	301-304
Число страниц	4
Журнал	Technical Physics Letters
Том	47
Номер выпуска	4
DOI	https://doi.org/10.1134/S1063785021030275
Состояние	Опубликовано - апр 2021

Предметные области OECD FOS+WOS

1.03 ФИЗИЧЕСКИЕ НАУКИ И АСТРОНОМИЯ

ГРНТИ

29 ФИЗИКА

Доступ к документу

10.1134/S1063785021030275

Другие файлы и ссылки

Fingerprint

Подробные сведения о темах исследования «Сглаживание тонких поликристаллических пленок AlN кластерными ионами аргона». Вместе они формируют уникальный семантический отпечаток (fingerprint).

Цитировать

@article{3958f0adb3e342c8b34be11a02f63dc3,

title = "Smoothing of Polycrystalline AlN Thin Films with Argon Cluster Ions",

abstract = "Surface modification of polycrystalline thin films of aluminum nitride using bombardment with an cluster ion beam has been investigated. The treatment has been performed using high-energy (105 eV/atom) and low-energy (10 eV/atom) argon cluster ions. High-efficiency smoothing of the nanostructured surface in a wide range of spatial frequencies (v = 0.02–128 μm–1) at ultrasmall etching depth (<100 nm) is demonstrated by atomic force microscopy with the application of the power spectral density function of roughness.",

keywords = "aluminum nitride, cluster ion beam, surface smoothing, thin films",

author = "Nikolaev, {I. V.} and Korobeishchikov, {N. G.} and Roenko, {M. A.} and Geydt, {P. V.} and Strunin, {V. I.}",

note = "Funding Information: This study was supported by the Ministry of Science and Higher Education of the Russian Federation (grants nos. FSUS-2020-0039 and FSUS-2020-0029) and performed within the framework of a state assignment to the Omsk Scientific Center of the Siberian Branch of the Russian Academy of Sciences (no. 075-03-2020-614). Publisher Copyright: {\textcopyright} 2021, Pleiades Publishing, Ltd.",

year = "2021",

month = apr,

doi = "10.1134/S1063785021030275",

language = "English",

volume = "47",

pages = "301--304",

journal = "Technical Physics Letters",

issn = "1063-7850",

publisher = "PLEIADES PUBLISHING INC",

number = "4",

}

Smoothing of Polycrystalline AlN Thin Films with Argon Cluster Ions. / Nikolaev, I. V.; Korobeishchikov, N. G.; Roenko, M. A.; Geydt, P. V.; Strunin, V. I.

В: Technical Physics Letters, Том 47, № 4, 12, 04.2021, стр. 301-304.

Результат исследования: Научные публикации в периодических изданиях › статья › рецензирование

TY - JOUR

T1 - Smoothing of Polycrystalline AlN Thin Films with Argon Cluster Ions

AU - Nikolaev, I. V.

AU - Korobeishchikov, N. G.

AU - Roenko, M. A.

AU - Geydt, P. V.

AU - Strunin, V. I.

N1 - Funding Information: This study was supported by the Ministry of Science and Higher Education of the Russian Federation (grants nos. FSUS-2020-0039 and FSUS-2020-0029) and performed within the framework of a state assignment to the Omsk Scientific Center of the Siberian Branch of the Russian Academy of Sciences (no. 075-03-2020-614). Publisher Copyright: © 2021, Pleiades Publishing, Ltd.

PY - 2021/4

Y1 - 2021/4

N2 - Surface modification of polycrystalline thin films of aluminum nitride using bombardment with an cluster ion beam has been investigated. The treatment has been performed using high-energy (105 eV/atom) and low-energy (10 eV/atom) argon cluster ions. High-efficiency smoothing of the nanostructured surface in a wide range of spatial frequencies (v = 0.02–128 μm–1) at ultrasmall etching depth (<100 nm) is demonstrated by atomic force microscopy with the application of the power spectral density function of roughness.

AB - Surface modification of polycrystalline thin films of aluminum nitride using bombardment with an cluster ion beam has been investigated. The treatment has been performed using high-energy (105 eV/atom) and low-energy (10 eV/atom) argon cluster ions. High-efficiency smoothing of the nanostructured surface in a wide range of spatial frequencies (v = 0.02–128 μm–1) at ultrasmall etching depth (<100 nm) is demonstrated by atomic force microscopy with the application of the power spectral density function of roughness.

KW - aluminum nitride

KW - cluster ion beam

KW - surface smoothing

KW - thin films

UR - http://www.scopus.com/inward/record.url?scp=85121124922&partnerID=8YFLogxK

UR - https://elibrary.ru/item.asp?id=47542410

U2 - 10.1134/S1063785021030275

DO - 10.1134/S1063785021030275

M3 - Article

AN - SCOPUS:85121124922

VL - 47

SP - 301

EP - 304

JO - Technical Physics Letters

JF - Technical Physics Letters

SN - 1063-7850

IS - 4

M1 - 12

ER -