Diffusion of Germanium from a Buried SiO2 Layer and Formation of a SiGe Phase

Переведенное название: Диффузия германия из захороненного слоя SiO2 и формирование фазы SiGe

I. E. Tyschenko, R. A. Khmelnitsky, V. V. Saraykin, V. A. Volodin, V. P. Popov

Результат исследования: Научные публикации в периодических изданияхстатьярецензирование

Fingerprint

Подробные сведения о темах исследования «Диффузия германия из захороненного слоя SiO2 и формирование фазы SiGe». Вместе они формируют уникальный семантический отпечаток (fingerprint).

Технические дисциплины и материаловедение

Физика и астрономия

Химические соединения